球形金属粉体 · 定义高端制造新可能
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产品介绍
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Pure-V 真空惰性气体雾化高纯球形金属钒粉,采用EIGA电极感应真空雾化工艺制备(无坩埚接触熔炼),全程高真空+高纯氩气保护,专门解决金属钒易氧化、杂质难控制痛点,是3D打印、热喷涂、核工业、溅射靶材专用高端活性金属粉体。
二、标准化学成分(高纯Pure-V钒粉,质量分数wt%)
1)3N5工业高纯级(通用3D打印/喷涂)
V(钒):≥99.95%
杂质上限: Fe≤0.015,Si≤0.005,Al≤0.008,Cr≤0.01,Cu≤0.005,C≤0.008,O≤0.03,N≤0.002,H≤0.001,总杂质≤0.05%
|
化学成分 |
V |
Fe |
Si |
Al |
Cr |
C |
O |
N |
Cu |
H |
|
≥99.5 |
≤0.015 |
≤0.005 |
≤0.008 |
≤0.01 |
≤0.008 |
≤0.03 |
≤0.002 |
≤0.005 |
≤0.001 |
|
物理性能 |
D10(μm) |
D50(μm) |
D90(μm) |
松装密度(g/cm³) |
振实密度(g/cm³) |
流动性(s/50g) |
|
24.80 |
37.72 |
52.89 |
3.40 |
20.50 |
≤45 |
应用领域
航空航天
1. 高超音速超燃冲压发动机燃烧室、火焰稳定器,800–1000℃长期服役;
2. 轻质耐高温导弹尾喷结构、飞行器热端承力件;
电子
半导体溅射靶材:高纯钒薄膜,用于芯片金属层、阻挡层镀膜;
锂电池/固态电池电极复合添加剂,提升电极循环稳定性;
化工行业
化工催化剂载体、耐腐蚀反应釜内衬烧结坯;
Pure-V
类别:
品 牌:亚洲新材
类 别:高熔点金属
产品名称:Pure-V
规格型号:15-53μm、45-105μm、53-150μm
形 貌:球形
氧 含 量:≤500ppm
如需了解更多产品详情,请与我们产品专家联系,期待您的来电。
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Pure-V 真空惰性气体雾化高纯球形金属钒粉,采用EIGA电极感应真空雾化工艺制备(无坩埚接触熔炼),全程高真空+高纯氩气保护,专门解决金属钒易氧化、杂质难控制痛点,是3D打印、热喷涂、核工业、溅射靶材专用高端活性金属粉体。
二、标准化学成分(高纯Pure-V钒粉,质量分数wt%)
1)3N5工业高纯级(通用3D打印/喷涂)
V(钒):≥99.95%
杂质上限: Fe≤0.015,Si≤0.005,Al≤0.008,Cr≤0.01,Cu≤0.005,C≤0.008,O≤0.03,N≤0.002,H≤0.001,总杂质≤0.05%
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化学成分 |
V |
Fe |
Si |
Al |
Cr |
C |
O |
N |
Cu |
H |
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≥99.5 |
≤0.015 |
≤0.005 |
≤0.008 |
≤0.01 |
≤0.008 |
≤0.03 |
≤0.002 |
≤0.005 |
≤0.001 |
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物理性能 |
D10(μm) |
D50(μm) |
D90(μm) |
松装密度(g/cm³) |
振实密度(g/cm³) |
流动性(s/50g) |
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24.80 |
37.72 |
52.89 |
3.40 |
20.50 |
≤45 |
应用领域
航空航天
1. 高超音速超燃冲压发动机燃烧室、火焰稳定器,800–1000℃长期服役;
2. 轻质耐高温导弹尾喷结构、飞行器热端承力件;
电子
半导体溅射靶材:高纯钒薄膜,用于芯片金属层、阻挡层镀膜;
锂电池/固态电池电极复合添加剂,提升电极循环稳定性;
化工行业
化工催化剂载体、耐腐蚀反应釜内衬烧结坯;
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